2019年7月16日，我司成功中標西安電子科技大學等離子增強化學氣相沉積設備采購招標項目。

本項目選用NANO-MASTER設計生產(chǎn)的NPE-4000系統(tǒng)，該系統(tǒng)為緊湊型設計PC 控制的獨立式下游式PECVD系統(tǒng)，占地面積僅為26”x44”（包含自動Load Lock 單元）,不銹鋼立柜。

本設備有以下主要突出優(yōu)勢：

1. 根據(jù)客戶的具體應用和需求，配置NANO-MASTER設計的中空陰*密度離子源。帶淋浴頭的平面離子源，具有離子密度高、電子溫度低以及腔體占空比低的特點，從而帶來高速、超低損傷，以及快速反應周期的優(yōu)勢，以實現(xiàn)低損傷高速率的沉積。
2. 配置NANO-MASTER先進的OES&EPD光發(fā)射譜終點監(jiān)測功能，可以涵蓋所有可見光波長范圍，并通過LabView 軟件控制該終點監(jiān)測系統(tǒng)。
3. 系統(tǒng)標準配置的RF 射頻電源為13.56MHz 600W 電源，配套自動調(diào)諧器給離子源供電，并配套300W低頻電源用于薄膜應力控制。
4. 系統(tǒng)標準配置的真空泵組包含渦輪分子泵和機械泵，極限真空可達到6x10^-7Torr。渦輪分子泵與腔體之間的直連設計，系統(tǒng)可獲得優(yōu)異的真空傳導率，20分鐘可達到10^-6Torr量級的高工藝真空，12小時達到10^-7Torr腔體極限真空。腔體壓力調(diào)節(jié)通過PC自動控制渦輪速度而全自動調(diào)節(jié)，快速穩(wěn)定。
5. 系統(tǒng)可支持單片或25片Cassette的Auto L/UL的升級，可實現(xiàn)自動進樣、對準、出樣，在不間斷工藝腔體真空的情況下連續(xù)處理樣片。Load Lock 腔體配套獨立的真空系統(tǒng)和真空計，通過PC全自動監(jiān)控。

近，那諾中國中標喜訊頻傳，這離不開客戶對NAN0-MASTER綜合實力的認可與信任。在未來，我們將會繼續(xù)秉承初心，用科技的力量實實在在助力客戶，實現(xiàn)更高水平的薄膜生長刻蝕技術。