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NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)：*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（可加熱至700度）功能；8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7 Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過(guò)使用RF射頻開(kāi)關(guān)，RF射頻或DC直流電源可以切換到多磁控管模式。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間：2023-11-13
  • 訪  問(wèn)  量：2314
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產(chǎn)品詳情

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)

NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

  • 不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
  • 70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵
  • 13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源
  • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率
  • 帶觀察視窗的腔門(mén)易于上下載片
  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
  • 帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問(wèn)控制
  • *的安全聯(lián)鎖

選配項(xiàng)：

  • 向上、向下或側(cè)面濺射
  • RF、DC以及脈沖DC濺射
  • 共濺射、反應(yīng)濺射
  • 組合濺射
  • RF或DC偏壓（1000V）
  • 樣品臺(tái)可加熱到700°C
  • 膜厚監(jiān)測(cè)儀
  • 基片的RF射頻等離子清洗
  • 預(yù)真空鎖以及自動(dòng)晶圓片上/下載片

應(yīng)用：

  • 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆
  • 光學(xué)以及ITO涂覆
  • 帶高溫樣品臺(tái)和脈沖DC電源的硬涂覆
  • 帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射

型號(hào)：

  • NSC-4000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立式系統(tǒng)
  • NSC-3500：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立式系統(tǒng)
  • NSC-3000：PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng)
  • NSC-1000：半自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng)

(以下為雙系統(tǒng)型號(hào))

  • NSR-4000：濺射/RIE系統(tǒng)
  • NSP-4000：濺射/PECVD系統(tǒng)
  • NST-4000：濺射/熱蒸發(fā)系統(tǒng)
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