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NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕

NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕：可以用于光柵刻蝕，SiO2二氧化硅、Si 硅以及金屬等的深槽刻蝕。此外，還可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。系統(tǒng)可以兼容反應(yīng)氣體以及非反應(yīng)氣體，比如Ar，O2，CF4，Cl2等。

  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間：2023-11-13
  • 訪  問  量：2644
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產(chǎn)品詳情

RIBE反應(yīng)離子束刻蝕

NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢(shì)。所有核心組件均為。

NIE-3500（R）RIBE反應(yīng)離子束刻蝕產(chǎn)品特點(diǎn)：

  • 低成本
  • 離子束：高達(dá)2KV/10mA
  • 離子電流密度100-360uA/cm2
  • 離子束直徑：4",5",6"
  • 兼容反應(yīng)及非反應(yīng)氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
  • 極限真空5x10-7Torr
  • 260l/s渦輪分子泵，串接500 l/min干泵
  • 14"不銹鋼或鋁質(zhì)腔體
  • 水冷旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(tái)(NIE-3500)
  • 自動(dòng)上下載片（NIE-3500）
  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
  • 占地面積30"x30"

產(chǎn)品應(yīng)用：

  • 表面清洗
  • 表面處理
  • 離子銑
  • 帶活性氣體的離子束刻蝕
  • 光柵刻蝕
  • SiO2，Si和金屬的深槽刻蝕

 

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