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熱真空試驗(yàn)箱是目前環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備行業(yè)中zui熱門(mén)的試驗(yàn)設(shè)備之一,而林頻儀器的設(shè)備也以的環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備和可靠性環(huán)境試驗(yàn)解決方案成為行業(yè)中的*。但是再好的設(shè)備如果使用不當(dāng)或缺少保養(yǎng)也會(huì)出現(xiàn)各種故障,今天就和各位來(lái)講講熱真空試驗(yàn)箱在使用中有可能會(huì)出現(xiàn)哪些故障以及解決方案吧。熱真空試驗(yàn)箱技術(shù)規(guī)格1、真空干燥箱是專(zhuān)為干燥熱敏性、易分解和易氧化物質(zhì)而設(shè)計(jì)的,工作時(shí)可使工作室內(nèi)保持一定的真空度,并能夠向內(nèi)部充入惰性氣體,特別是一些成分復(fù)雜的物品也能進(jìn)行快速干燥,采用智能型數(shù)字溫度調(diào)節(jié)儀進(jìn)行溫度...

熱真空試驗(yàn)箱是在地面上模擬太空環(huán)境的環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備。近幾年來(lái),熱真空試驗(yàn)設(shè)備在航天航空業(yè)產(chǎn)品的研制和定型中發(fā)揮了重要作用。熱真空試驗(yàn)箱由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜,在運(yùn)行中有時(shí)會(huì)出現(xiàn)一些異?，F(xiàn)象,如果不能及時(shí)排除,將延長(zhǎng)試驗(yàn)周期,影響產(chǎn)品的研制工作。為此,我們對(duì)熱真空試驗(yàn)箱的基本工作原理作一些簡(jiǎn)要闡述,并介紹如何對(duì)熱真空試驗(yàn)箱的一般故障進(jìn)行分析判斷和排除。1、熱真空試驗(yàn)箱工作原理下面以和熱真空試驗(yàn)箱為例簡(jiǎn)要介紹其工作過(guò)程。試驗(yàn)箱由主泵渦輪分子泵、機(jī)械泵、預(yù)抽閥、主抽閥等組成真空機(jī)組,對(duì)真空...

光學(xué)鍍膜設(shè)備原理磁控濺射系統(tǒng)在陰極靶材的背后放置100～1000Gauss強(qiáng)力磁鐵,真空室充入011～10Pa壓力的惰性氣體(Ar),作為氣體放電的載體。光學(xué)鍍膜設(shè)備在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子,電子在加速飛向基片的過(guò)程中,受到垂直于電場(chǎng)的磁場(chǎng)影響,使電子產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),電子以擺線(xiàn)的方式沿著靶表面前進(jìn),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷與Ar原子發(fā)生碰撞,電離出大量的Ar+離子，經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線(xiàn)的束縛,zui終落在基片、...

硅片清洗機(jī)物理清洗有三種方法：①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數(shù)粘在片子上的薄膜。②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達(dá)幾百個(gè)大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產(chǎn)生劃痕和損傷。但高壓噴射會(huì)產(chǎn)生靜電作用，靠調(diào)節(jié)噴嘴到片子的距離、角度或加入防靜電劑加以避免。③超聲波清洗：超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段，清洗效果更好。硅片清洗機(jī)發(fā)展展望：伴隨著硅片的大直徑化,器件結(jié)構(gòu)的超微小化...

微波等離子清洗機(jī)技術(shù)的zui大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對(duì)消費(fèi)品的質(zhì)量要求也越來(lái)越高，等離子技術(shù)隨之逐步進(jìn)入生活消費(fèi)品生產(chǎn)行業(yè)中；另外，科技的不斷發(fā)展，各種技術(shù)問(wèn)題的不斷提出，新材料的不斷涌現(xiàn)，越來(lái)越多的科研機(jī)構(gòu)已認(rèn)識(shí)到等離子技術(shù)的重要性，并投入大量資金進(jìn)行技術(shù)攻關(guān)，等離...

光學(xué)鍍膜系統(tǒng)在這個(gè)階段里要設(shè)計(jì)擬定出光學(xué)系統(tǒng)原理圖，確定基本光學(xué)特性，使?jié)M足給定的技術(shù)要求，即確定放大倍率或焦距、線(xiàn)視場(chǎng)或角視視場(chǎng)、數(shù)值孔徑或相對(duì)孔徑、共軛距、后工作距離光闌位置和外形尺寸等。因此，常把這個(gè)階段稱(chēng)為外形尺寸計(jì)算。一般都按理想光學(xué)系統(tǒng)的理論和計(jì)算公式進(jìn)行外形尺寸計(jì)算。在計(jì)算時(shí)一定要考慮機(jī)械結(jié)構(gòu)和電氣系統(tǒng)，以防止在機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)上無(wú)法實(shí)現(xiàn)。每項(xiàng)性能的確定一定要合理，過(guò)高要求會(huì)使設(shè)計(jì)結(jié)果復(fù)雜造成浪費(fèi)，過(guò)低要求會(huì)使設(shè)計(jì)不符合要求，因此這一步驟慎重行事。無(wú)論是無(wú)機(jī)材料還是有機(jī)...

隨著NANO-MASTER*技術(shù)的ICP源的深入應(yīng)用，對(duì)于大面積的基片提供均勻高品質(zhì)的薄膜生長(zhǎng)得以實(shí)現(xiàn)。到目前為止，NANO-MASTER的ALD系統(tǒng)可以支持在任意尺寸的襯底上的擴(kuò)展，這給顯示和照明等領(lǐng)域帶來(lái)好消息。此外，NANO-MASTER同時(shí)具備粉末處理能力的擴(kuò)展。這樣，NANO-MASTER系統(tǒng)已經(jīng)可以支持在任意尺寸和任意形狀的固體上進(jìn)行原子級(jí)生長(zhǎng)。在應(yīng)用選擇方面，我們支持熱ALD和PEALD系統(tǒng)的單獨(dú)應(yīng)用，同時(shí)也支持ALE/ALD雙系統(tǒng)、IBE/ALD雙系統(tǒng)、ALD...

微波等離子清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來(lái)愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來(lái)愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，微波等離子清洗機(jī)發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿(mǎn)足刻蝕的需要。微...